|
1
|
Ермакова Е.Н.
, Максимовский Е.А.
, Федоренко А.Д.
, Шаповалова А.А.
, Хижняк Е.А.
, Косинова М.Л.
Синтез и исследование пленок SiBCN, полученных в процессе плазмохимического осаждения из триэтиламинборана, гексаметидисилазана и аммиака
Журнал структурной химии. 2024.
Т.65. №8. 130382
. DOI: 10.26902/jsc_id130382
РИНЦ
OpenAlex
|
|
2
|
Ermakova E.N.
, Maksimovsky E.A.
, Fedorenko A.D.
, Shapovalova A.A.
, Khizhnyak E.A.
, Kosinova M.L.
Synthesis and Analysis of SiBCN Films Obtained by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition from Triethylaminoborane, Hexamethyldisilazane, and Ammonia
Journal of Structural Chemistry. 2024.
V.65. N8. P.1488-1501. DOI: 10.1134/s002247662408002x
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
3
|
Чагин М.Н.
, Ермакова Е.Н.
, Шаяпов В.Р.
, Суляева В.С.
, Максимовский Е.А.
, Юшина И.В.
, Косинова М.Л.
Аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, полученные из паров гексаметилдисилана в индуктивно-связанной плазме ВЧ-разряда
Химия высоких энергий. 2024.
Т.58. №6. С.500-507. DOI: 10.31857/S0023119324060112
РИНЦ
|
|
4
|
Chagin M.N.
, Ermakova E.N.
, Shayapov V.R.
, Sulyaeva V.S.
, Yushina I.V.
, Maksimovskiy E.A.
, Dudkina S.P.
, Saraev A.A.
, Gerasimov E.Y.
, Mogilnikov K.P.
, Kolodin A.N.
, Kosinova M.L.
SiCx:H and SiCxNy:H Amorphous Films Prepared from Hexamethyldisilane Vapors
Journal of Structural Chemistry. 2024.
V.65. N10. P.2041-2057. DOI: 10.1134/s0022476624100147
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
5
|
Суляева В.С.
, Сыроквашин М.М.
, Кожевников А.К.
, Ермакова Е.Н.
Синтез пленок TiSiN методом реактивного магнетронного распыления при комнатной температуре
Неорганические материалы. 2024.
Т.60. №2. С.164-174. DOI: 10.31857/S0002337X24020044
РИНЦ
|
|
6
|
Sulyaeva V.S.
, Syrokvashin M.M.
, Kozhevnikov A.K.
, Ermakova E.N.
Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering
Inorganic Materials. 2024.
V.60. N6. P.723-730. DOI: 10.1134/S0020168524700948
WOS
OpenAlex
|
|
7
|
Ermakova E.
, Tsyrendorzhieva I.
, Mareev A.
, Pavlov D.
, Maslova O.
, Shayapov V.
, Maksimovskiy E.
, Yushina I.
, Kosinova M.
Carbon-Rich Plasma-Deposited Silicon Oxycarbonitride Films Derived from 4-(Trimethylsilyl)morpholine as a Novel Single-Source Precursor
ChemPlusChem. 2024.
V.89. e202400094
:1-13. DOI: 10.1002/cplu.202400094
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
8
|
Ermakova E.
, Shayapov V.
, Saraev A.
, Maximovsky E.
, Kirienko V.
, Khomyakov M.
, Sulyaeva V.
, Kolodin A.
, Gerasimov E.
, Kosinova M.
Effect of plasma power on growth process, chemical structure, and properties of PECVD films produced from hexamethyldisilane and ammonia
Surface & Coatings Technology. 2024.
V.490. 131131
:1-12. DOI: 10.1016/j.surfcoat.2024.131131
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
9
|
Чагин М.Н.
, Ермакова Е.Н.
, Шаяпов В.Р.
, Суляева В.С.
, Юшина И.В.
, Максимовский Е.А.
, Дудкина С.П.
, Сараев А.А.
, Герасимов Е.Ю.
, Могильников К.П.
, Колодин А.Н.
, Косинова М.Л.
АМОРФНЫЕ ПЛЕНКИ SiCx:H и SiCxNy:H, ПОЛУЧЕННЫЕ ИЗ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛАНА
Журнал структурной химии. 2024.
Т.65. №10. 134149
. DOI: 10.26902/jsc_id134149
РИНЦ
OpenAlex
|
|
10
|
Chagin M.N.
, Ermakova E.N.
, Shayapov V.R.
, Sulyaeva V.S.
, Maksimovskii E.A.
, Yushina I.V.
, Kosinova M.L.
Amorphous SiCx:H and SiCxNy:H Films Obtained from Hexamethyldisilane Vapor in Inductively Coupled RF Discharge Plasma
High Energy Chemistry. 2024.
V.58. N6. P.693-698. DOI: 10.1134/S0018143924700565
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
11
|
Ermakova E.
, Kolodin A.
, Fedorenko A.
, Yushina I.
, Shayapov V.
, Maksimovskiy E.
, Kosinova M.
Controlling of Chemical Bonding Structure, Wettability, Optical Characteristics of SiCN:H (SiC:H) Films Produced by PECVD Using Tetramethylsilane and Ammonia Mixture
Coatings. 2023.
V.13. N2. 310
:1-22. DOI: 10.3390/coatings13020310
WOS
Scopus
OpenAlex
|
|
12
|
Ermakova E.
, Sysoev S.
, Tsyrendorzhieva I.
, Mareev A.
, Maslova O.
, Shayapov V.
, Maksimovskiy E.
, Yushina I.
, Kosinova M.
1,4-Bis(trimethylsilyl)piperazine—Thermal Properties and Application as CVD Precursor
Coatings. 2023.
V.13. N6. 1045
:1-23. DOI: 10.3390/coatings13061045
WOS
Scopus
OpenAlex
|
|
13
|
Ермакова Е.Н.
, Максимовский Е.А.
, Юшина И.В.
, Косинова М.Л.
CVD-СИНТЕЗ ПЛЕНОК ГРАФИТОПОДОБНОГО НИТРИДА УГЛЕРОДА ИЗ МЕЛАМИНА
Журнал неорганической химии. 2023.
Т.68. №2. С.256-264. DOI: 10.31857/S0044457X22601547
РИНЦ
OpenAlex
|
|
14
|
Ermakova E.N.
, Maksimovskii E.A.
, Yushina I.V.
, Kosinova M.L.
CVD Synthesis of Graphitic Carbon Nitride Films from Melamine
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2023.
V.68. N2. P.208-215. DOI: 10.1134/s0036023622602252
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
15
|
Ermakova Е.
, Kosinova M.
Organosilicon compounds as single-source precursors for SiCN films production
Journal of Organometallic Chemistry. 2022.
V.958. 122183
:1-28. DOI: 10.1016/j.jorganchem.2021.122183
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
16
|
Ermakova E.
, Mogilnikov K.
, Asanov I.
, Fedorenko A.
, Yushina I.
, Kichay V.
, Maksimovskiy E.
, Kosinova M.
Chemical Structure, Optical and Dielectric Properties of PECVD SiCN Films Obtained from Novel Precursor
Coatings. 2022.
V.12. N11. 1767
:1-17. DOI: 10.3390/coatings12111767
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
17
|
Ермакова Е.Н.
, Румянцев Ю.М.
, Рахлин В.И.
, Косинова М.Л.
Плазмохимический синтез прозрачных диэлектрических пленок Si–C–O–H из триметилфеноксисилана
Химия высоких энергий. 2016.
Т.50. №3. С.232–235. DOI: 10.7868/S0023119316030098
РИНЦ
OpenAlex
|
|
18
|
Ermakova E.N.
, Sysoev S.V.
, Nikolaev R.E.
, Nikulina L.D.
, Lis A.V.
, Tsyrendorzhieva I.P.
, Rakhlin V.I.
, Plyusnin P.E.
, Kosinova M.L.
Thermal properties of some organosilicon precursors for chemical vapor deposition
Journal of Thermal Analysis and Calorimetry. 2016.
V.126. P.609-616. DOI: 10.1007/s10973-016-5563-y
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|
|
19
|
Меренков И.С.
, Косинова М.Л.
, Ермакова Е.Н.
, Максимовский Е.А.
, Румянцев Ю.М.
PECVD СИНТЕЗ НАНОСТЕНОК ГЕКСАГОНАЛЬНОГО НИТРИДА БОРА ИЗ СМЕСИ БОРАЗИНА И АММИАКА
Неорганические материалы. 2015.
Т.51. №11. 1183–1189
:1-7. DOI: 10.7868/S0002337X15100115
РИНЦ
OpenAlex
|
|
20
|
Ermakova E.
, Mogilnikov K.
, Rumyantsev Y.
, Kichay V.
, Maximovskii E.
, Semenova O.
, Kosinova M.
Study of Cu diffusion behavior in carbon rich SiCN:H films deposited from trimethylphenylsilane
Thin Solid Films. 2015.
V.588. P.39-43. DOI: 10.1016/j.tsf.2015.04.058
WOS
Scopus
РИНЦ
OpenAlex
|