Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering Научная публикация
| Журнал |
Inorganic Materials
ISSN: 0020-1685 , E-ISSN: 1608-3172 |
||
|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 2024, Том: 60, Номер: 6, Страницы: 723-730 Страниц : 8 DOI: 10.1134/S0020168524700948 | ||
| Авторы |
|
||
| Организации |
|
Библиографическая ссылка:
Sulyaeva V.S.
, Syrokvashin M.M.
, Kozhevnikov A.K.
, Ermakova E.N.
Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering
Inorganic Materials. 2024. V.60. N6. P.723-730. DOI: 10.1134/S0020168524700948 WOS OpenAlex
Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering
Inorganic Materials. 2024. V.60. N6. P.723-730. DOI: 10.1134/S0020168524700948 WOS OpenAlex
Оригинальная:
Суляева В.С.
, Сыроквашин М.М.
, Кожевников А.К.
, Ермакова Е.Н.
Синтез пленок TiSiN методом реактивного магнетронного распыления при комнатной температуре
Неорганические материалы. 2024. Т.60. №2. С.164-174. DOI: 10.31857/S0002337X24020044 РИНЦ
Синтез пленок TiSiN методом реактивного магнетронного распыления при комнатной температуре
Неорганические материалы. 2024. Т.60. №2. С.164-174. DOI: 10.31857/S0002337X24020044 РИНЦ
Даты:
| Опубликована в печати: | 10 мар. 2025 г. |
Идентификаторы БД:
| Web of science: | WOS:001441493200003 |
| OpenAlex: | W4408285565 |
Цитирование в БД:
Пока нет цитирований