ПОЛУЧЕНИЕ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ PECVD СЛОЕВ SICNO:H ИЗ НОВОГО КРЕМНИЙОРГАНИЧЕСКОГО ПРЕДШЕСТВЕННИКА Научная публикация
| Журнал |
Химия высоких энергий
ISSN: 0023-1193 |
||
|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 2026, Том: 60, Номер: 1, Страницы: 106-111 Страниц : 6 DOI: 10.7868/S3034608826010143 | ||
| Авторы |
|
||
| Организации |
|
Информация о финансировании (1)
| 1 | Российский научный фонд |
Библиографическая ссылка:
Ермакова Е.Н.
, Косинова М.Л.
ПОЛУЧЕНИЕ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ PECVD СЛОЕВ SICNO:H ИЗ НОВОГО КРЕМНИЙОРГАНИЧЕСКОГО ПРЕДШЕСТВЕННИКА
Химия высоких энергий. 2026. Т.60. №1. С.106-111. DOI: 10.7868/S3034608826010143
ПОЛУЧЕНИЕ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ PECVD СЛОЕВ SICNO:H ИЗ НОВОГО КРЕМНИЙОРГАНИЧЕСКОГО ПРЕДШЕСТВЕННИКА
Химия высоких энергий. 2026. Т.60. №1. С.106-111. DOI: 10.7868/S3034608826010143
Переводная:
Ermakova E.N.
, Kosinova M.L.
Synthesis of SiCNO:H Dielectric Layers by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using a Novel Organosilicon Precursor
High Energy Chemistry. 2026. V.60. N1. P.129-133. DOI: 10.1134/s0018143925601149 WOS Scopus OpenAlex
Synthesis of SiCNO:H Dielectric Layers by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using a Novel Organosilicon Precursor
High Energy Chemistry. 2026. V.60. N1. P.129-133. DOI: 10.1134/s0018143925601149 WOS Scopus OpenAlex
Даты:
| Поступила в редакцию: | 26 авг. 2025 г. |
| Опубликована в печати: | 30 янв. 2026 г. |
Идентификаторы БД:
Нет идентификаторов