Chemical Structure and Stability of Amorphous SiCxNy:H Films Prepared by ICP CVD Using Disilazanes

Chemical Structure and Stability of Amorphous SiCxNy:H Films Prepared by ICP CVD Using Disilazanes Научная публикация

Журнал

Journal of Structural Chemistry
ISSN: 1573-8779 , E-ISSN: 0022-4766

Вых. Данные

Год: 2026, Том: 67, Номер: 2, Страницы: 426-441 Страниц : 16 DOI: 10.1134/s0022476626020174

Авторы

Chagin M.N. ¹ , Sulyaeva V.S. ¹ , Ermakova E.N. ¹ , Maksimovskiy E.A. ¹ , Asanov I.P. ¹ , Kolodin A.N. ¹ , Yushina I.V. ¹ , Tu R. ² , Kosinova M.L. ¹

Организации

1	Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk, Russia
2	Wuhan University of Technology, Wuhan, People’s Republic of China

Информация о финансировании (1)

Российский научный фонд

Chagin M.N. , Sulyaeva V.S. , Ermakova E.N. , Maksimovskiy E.A. , Asanov I.P. , Kolodin A.N. , Yushina I.V. , Tu R. , Kosinova M.L.
Chemical Structure and Stability of Amorphous SiCxNy:H Films Prepared by ICP CVD Using Disilazanes
Journal of Structural Chemistry. 2026. V.67. N2. P.426-441. DOI: 10.1134/s0022476626020174 OpenAlex

Чагин М.Н. , Суляева В.С. , Ермакова Е.Н. , Максимовский Е.А. , Асанов И.П. , Колодин А.Н. , Юшина И.В. , Tu R. , Косинова М.Л.
Химическая структура и стабильность аморфных пленок SiCxNy:H, полученных методом ICP CVD с использованием дисилазанов
Журнал структурной химии. 2026. Т.67. №2. 161463 . DOI: 10.26902/JSC_id161463 OpenAlex

Поступила в редакцию:	21 нояб. 2025 г.
Опубликована в печати:	13 мар. 2026 г.

≡ OpenAlex:

W7135233497