Sciact
  • EN
  • RU

ПЛЕНКИ BCNO:H, ПОЛУЧЕННЫЕ МЕТОДАМИ LPCVD И PECVD ИЗ СМЕСИ ПАРА ТРИМЕТИЛАМИНБОРАНА И АЗОТА Доклады на конференциях

Язык Русский
Тип доклада Устный
Конференция Кузнецовские чтения-2022. Шестой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы
11-13 июл. 2022 , Новосибирск, Лаврентьева, 3
Авторы Белая С.В. 1 , Максимовский Е.А. 1 , Шаяпов В.Р. 1 , Шаповалова А.А. 1 , Колодин А.Н. 1 , Каичев В.В. 2 , Асанов И.П. 1 , Хомяков М.Н. 3 , Юшина И.В. 1 , Суляева В.С. 1 , Косинова М.Л. 1
Организации
1 Институт неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН
2 Институт катализа имени Г. К. Борескова СО РАН
3 Институт лазерной физики СО РАН

Реферат: Материалы состава BCxNy привлекательны возможностью сочетать уникальные свойства соединений с-BN, h-BN, B4C, C3N4 и C (графита, алмаза, фуллерена), напри-мер, регулировать ширину запрещенной зоны (от 0.5 до 6.2 эВ), варьировать механиче-ские свойства [1, 2]. Пленки были синтезированы из смеси пара триметиламинборана (ТМАБ) и азота (РТМАБ(273К) = РN2). Использование ТМАБ целесообразно, так как он со-держит B, N и C, является стабильным и относительно недорогим [3]. Пленки охарак-теризованы методами: СЭМ, ЭДС, эллипсометрии, ИК-, КР-, РФЭС спектроскопии, спектрофотометрии, наноиндентирования, склерометрии; измерены краевые углы сма-чивания в режиме лежащей капли и по ним рассчитана Епов,. В LPCVD процессе (Тсинт 673-973 К) получены пленки преимущественно состава BCx, а в PECVD процессе (Тсинт 373-873 К) - t-BN (373-473 К), h-BN (523-873 К), содержащие также BCxNy:H с различ-ными для двух процессов типами связей. В таблице представлены полученные физико-химические величины. В случае PECVD в данной работе были получены характери-стики только для гладких пленок (Тсинт 373-550 К), при Тсинт > 550 К формируются стен-ки. Тип процесса CVD Тсинт, К v, нм/ мин Фазовый состав n T, % Eg, эВ Епов, Дж/м H, ГПа E, ГПа R, % LPCVD 673 773 823 848 873 898 923 973 1.7 3.3 4.1 4.5 5.0 5.4 5.8 6.6 BCx, BCxNy: H (B-C, C-N, B-N, B-H) С ростом Тсинт вклад B-N и С-N увелич., B-H уменьш. 2.43 2.54 2.56 2.56 2.55 2.54 2.53 2.48 - - 47 45 45 45 45 45 46 49 27 28 28 27 25 243 235 243 236 220 71 70 70 71 74 PECVD 373 423 473 18.1 12.6 6.8 5.0 5.1 5.3 5.5 5.7 t-BN, B4C, BCxNy:H (N-H, C-H) 1.52 1.54 1.57 1.62 92-95 5.22 5.53 5.67 5.80 68 62 51 49 0,76 0,94 1,21 1,40 26 25 26 26 19 21 26 28 523 573 673 773 873 h-BN, BCxNy:H, С ростом Тсинт N-H и С-Н уменьш. Работа выполнена при поддержке РФФИ-НСО р_а_Новосибирск № 20-43-540016. 1. Nappini S., Bondino F., Piš I, et. al // Appl. Surf. Science. Vol. 479. 2019. P. 903. 2. S.D. Nehate, A.K. Saikumar, A. Prakash, K.B. Sundaram // Mater. Today Adv. 2020. Vol. 8. P. 100106. 3. Tay R. Y. Chemical Vapor Deposition Growth and Characterization of Two-Dimensional Hexagonal Boron Nitride. Springer Theses. 2018.
Библиографическая ссылка: Белая С.В. , Максимовский Е.А. , Шаяпов В.Р. , Шаповалова А.А. , Колодин А.Н. , Каичев В.В. , Асанов И.П. , Хомяков М.Н. , Юшина И.В. , Суляева В.С. , Косинова М.Л.
ПЛЕНКИ BCNO:H, ПОЛУЧЕННЫЕ МЕТОДАМИ LPCVD И PECVD ИЗ СМЕСИ ПАРА ТРИМЕТИЛАМИНБОРАНА И АЗОТА
Кузнецовские чтения-2022. Шестой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы 11-13 июл. 2022