Phase formation in ALD Hf1–xTixO2 and Zr1–xTixO2 films from amorphous to crystalline solid solutions

Phase formation in ALD Hf1–xTixO2 and Zr1–xTixO2 films from amorphous to crystalline solid solutions Научная публикация

Журнал

Bulletin of Materials Science
ISSN: 0973-7669 , E-ISSN: 0250-4707

Вых. Данные

Год: 2026, Том: 49, Номер статьи : 173, Страниц : 14 DOI: 10.1007/s12034-026-03653-0

Ключевые слова

Atomic layer deposition; mixed oxides; phase formation; solid solution.

Авторы

KHIZHNYAK EUGENE A ¹ , SHAYAPOV VLADIMIR R ¹ , FEDORENKO ANASTASIYA D ¹ , KOROLKOV ILYA V ¹ , GORYAINOV SERGEI V ² , MAXIMOVSKIY EUGENE A ¹ , LEBEDEV MIKHAIL S ¹

Организации

1	Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry SB RAS
2	Sobolev Institute of Geology and Mineralogy SB RAS

Информация о финансировании (1)

KHIZHNYAK E.A. , SHAYAPOV V.R. , FEDORENKO A.D. , KOROLKOV I.V. , GORYAINOV S.V. , MAXIMOVSKIY E.A. , LEBEDEV M.S.
Phase formation in ALD Hf1–xTixO2 and Zr1–xTixO2 films from amorphous to crystalline solid solutions
Bulletin of Materials Science. 2026. V.49. 173 :1-14. DOI: 10.1007/s12034-026-03653-0 WOS Scopus

Поступила в редакцию:	7 нояб. 2025 г.
Принята к публикации:	11 февр. 2026 г.
Опубликована в печати:	17 авг. 2026 г.
Опубликована online:	17 авг. 2026 г.

≡ Web of science:	WOS:001851245800001
≡ Scopus:	2-s2.0-105047544966