Sciact
  • EN
  • RU

Chemical Composition, Structure, and Physical Properties of AlN Films Produced via Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering Научная публикация

Журнал Coatings
ISSN: 2079-6412
Вых. Данные Год: 2023, Том: 13, Номер: 7, Номер статьи : 1281, Страниц : 13 DOI: 10.3390/coatings13071281
Авторы Shayapov Vladimir R. 1,2 , Bogoslovtseva Alena L. 1 , Chepkasov Sergey Yu. 1 , Asanov Igor P. 1,2 , Maksimovskiy Evgeny A. 1,2 , Kapishnikov Aleksandr V. 1 , Mironova Maria I. 1 , Lapega Alina V. 1 , Geydt Pavel V. 1
Организации
1 Laboratory of Functional Diagnostics of Low–Dimensional Structures for Nanoelectronics, Novosibirsk State University, 630090 Novosibirsk, Russia
2 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, SB RAS, 630090 Novosibirsk, Russia
Библиографическая ссылка: Shayapov V.R. , Bogoslovtseva A.L. , Chepkasov S.Y. , Asanov I.P. , Maksimovskiy E.A. , Kapishnikov A.V. , Mironova M.I. , Lapega A.V. , Geydt P.V.
Chemical Composition, Structure, and Physical Properties of AlN Films Produced via Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering
Coatings. 2023. V.13. N7. 1281 :1-13. DOI: 10.3390/coatings13071281 WOS Scopus OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 23 июн. 2023 г.
Опубликована в печати: 21 июл. 2023 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:001035225500001
Scopus: 2-s2.0-85166261172
OpenAlex: W4385224121
Цитирование в БД:
БД Цитирований
OpenAlex 4
Web of science 3
Альметрики: