МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ Научная публикация
Журнал |
Известия НАН РА. Физика
ISSN: 0002-3035 |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2020, Том: 55, Номер: 1, Страницы: 24-32 Страниц : 9 | ||||||
Авторы |
|
||||||
Организации |
|
Реферат:
Методом конечных разностей во временной области (FDTD) исследованы оптические свойства слоев черного кремния (b-Si), пассивированных пленками оксидов различных металлов (Al2O3, TiO2, HfO2 и Sc2O3), полученных методом атомно-слоевого осаждения (ALD). Результаты FDTD моделирования свидетельствуют об улучшении антиотражающих свойств структур «b-Si/ALD-пленка» в широком спектральном диапазоне. Показана необходимость выбора оптимальной толщины пленок.
Библиографическая ссылка:
Катков М.В.
, Айвазян Г.Е.
, Шаяпов В.Р.
, Лебедев М.С.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ
Известия НАН РА. Физика. 2020. Т.55. №1. С.24-32.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ
Известия НАН РА. Физика. 2020. Т.55. №1. С.24-32.
Переводная:
Katkov M.V.
, Ayvazyan G.Y.
, Shayapov V.R.
, Lebedev M.S.
Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides
Journal of contemporary physics /. 2020. V.55. N1. P.16-22. DOI: 10.3103/s106833722001003x Scopus OpenAlex
Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides
Journal of contemporary physics /. 2020. V.55. N1. P.16-22. DOI: 10.3103/s106833722001003x Scopus OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: | 6 сент. 2019 г. |
Идентификаторы БД:
Нет идентификаторов
Цитирование в БД:
Пока нет цитирований