Sciact
  • EN
  • RU

Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides Научная публикация

Журнал Journal of contemporary physics /
ISSN: 1934-9378 , E-ISSN: 1068-3372
Вых. Данные Год: 2020, Том: 55, Номер: 1, Страницы: 16-22 Страниц : 7 DOI: 10.3103/s106833722001003x
Авторы Katkov M.V. 1,3 , Ayvazyan G.Y. 2 , Shayapov V.R. 1 , Lebedev M.S. 1
Организации
1 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences, Novosibirsk, Russia
2 National Polytechnic University of Armenia Foundation, Yerevan, Armenia
3 Institute of Systems Science, Durban University of Technology, Durban, South Africa

Реферат: Using the finite difference time domain (FDTD) method, we studied the optical properties of black silicon (BSi) layers passivated with the various metal oxides (Al2O3, TiO2, HfO2, and Sc2O3) films, obtained by atomic layer deposition (ALD) method. The results of FDTD modeling indicate an improvement in the antireflection properties of BSi/ALD film structures in the wide spectral range. The necessity to choose the optimal film thickness is shown.
Библиографическая ссылка: Katkov M.V. , Ayvazyan G.Y. , Shayapov V.R. , Lebedev M.S.
Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides
Journal of contemporary physics /. 2020. V.55. N1. P.16-22. DOI: 10.3103/s106833722001003x WOS Scopus OpenAlex
Оригинальная: Катков М.В. , Айвазян Г.Е. , Шаяпов В.Р. , Лебедев М.С.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ
Известия НАН РА. Физика. 2020. Т.55. №1. С.24-32.
Даты:
Поступила в редакцию: 6 сент. 2019 г.
Принята к публикации: 6 дек. 2019 г.
Опубликована в печати: 23 мар. 2020 г.
Опубликована online: 23 мар. 2020 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:000521158600003
Scopus: 2-s2.0-85082529930
OpenAlex: W3014055291
Цитирование в БД:
БД Цитирований
Scopus 12
OpenAlex 20
Web of science 10
Альметрики: