Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides Научная публикация
| Журнал |
Journal of contemporary physics /
ISSN: 1934-9378 , E-ISSN: 1068-3372 |
||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 2020, Том: 55, Номер: 1, Страницы: 16-22 Страниц : 7 DOI: 10.3103/s106833722001003x | ||||||
| Авторы |
|
||||||
| Организации |
|
Реферат:
Using the finite difference time domain (FDTD) method, we studied the optical properties of black silicon (BSi) layers passivated with the various metal oxides (Al2O3, TiO2, HfO2, and Sc2O3) films, obtained by atomic layer deposition (ALD) method. The results of FDTD modeling indicate an improvement in the antireflection properties of BSi/ALD film structures in the wide spectral range. The necessity to choose the optimal film thickness is shown.
Библиографическая ссылка:
Katkov M.V.
, Ayvazyan G.Y.
, Shayapov V.R.
, Lebedev M.S.
Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides
Journal of contemporary physics /. 2020. V.55. N1. P.16-22. DOI: 10.3103/s106833722001003x Scopus OpenAlex
Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides
Journal of contemporary physics /. 2020. V.55. N1. P.16-22. DOI: 10.3103/s106833722001003x Scopus OpenAlex
Оригинальная:
Катков М.В.
, Айвазян Г.Е.
, Шаяпов В.Р.
, Лебедев М.С.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ
Известия НАН РА. Физика. 2020. Т.55. №1. С.24-32.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ
Известия НАН РА. Физика. 2020. Т.55. №1. С.24-32.
Даты:
| Поступила в редакцию: | 6 сент. 2019 г. |
| Принята к публикации: | 6 дек. 2019 г. |
| Опубликована в печати: | 23 мар. 2020 г. |
| Опубликована online: | 23 мар. 2020 г. |
Идентификаторы БД:
| Scopus: | 2-s2.0-85082529930 |
| OpenAlex: | W3014055291 |