МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ

МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ Full article

Journal

Известия НАН РА. Физика
ISSN: 0002-3035

Output data

Year: 2020, Volume: 55, Number: 1, Pages: 24-32 Pages count : 9

Authors

Катков М.В. ^1,3 , Айвазян Г.Е. ² , Шаяпов В.Р. ¹ , Лебедев М.С. ¹

Affiliations

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
2	Национальный политехнический университет Армении, Ереван, Армения
3	Durban University of Technology, Institute of Systems Science, Durban, South Africa

Методом конечных разностей во временной области (FDTD) исследованы оптические свойства слоев черного кремния (b-Si), пассивированных пленками оксидов различных металлов (Al2O3, TiO2, HfO2 и Sc2O3), полученных методом атомно-слоевого осаждения (ALD). Результаты FDTD моделирования свидетельствуют об улучшении антиотражающих свойств структур «b-Si/ALD-пленка» в широком спектральном диапазоне. Показана необходимость выбора оптимальной толщины пленок.

Катков М.В. , Айвазян Г.Е. , Шаяпов В.Р. , Лебедев М.С.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ЧЁРНОГО КРЕМНИЯ, ПАССИВИРОВАННОГО ТОНКИМИ ПЛЁНКАМИ ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ
Известия НАН РА. Физика. 2020. Т.55. №1. С.24-32.

Katkov M.V. , Ayvazyan G.Y. , Shayapov V.R. , Lebedev M.S.
Modeling of the Optical Properties of Black Silicon Passivated by Thin Films of Metal Oxides
Journal of contemporary physics /. 2020. V.55. N1. P.16-22. DOI: 10.3103/s106833722001003x Scopus OpenAlex

Submitted:

Sep 6, 2019

No identifiers

Пока нет цитирований