PECVD Synthesis of Silicon Carbonitride Layers Using Methyltris(diethylamino)silane as the New Single-Source Precursor Научная публикация
Журнал |
ECS Journal of Solid State Science and Technology
ISSN: 2162-8769 , E-ISSN: 2162-8777 |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2015, Том: 4, Номер: 1, Страницы: N3153-N3163 Страниц : DOI: 10.1149/2.0201501jss | ||||||
Авторы |
|
||||||
Организации |
|
Библиографическая ссылка:
Fainer N.I.
, Plekhanov A.G.
, Golubenko A.N.
, Rumyantsev Y.M.
, Rakhlin V.I.
, Maximovski E.A.
, Shayapov V.R.
PECVD Synthesis of Silicon Carbonitride Layers Using Methyltris(diethylamino)silane as the New Single-Source Precursor
ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2015. Т.4. №1. С.N3153-N3163. DOI: 10.1149/2.0201501jss WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
PECVD Synthesis of Silicon Carbonitride Layers Using Methyltris(diethylamino)silane as the New Single-Source Precursor
ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2015. Т.4. №1. С.N3153-N3163. DOI: 10.1149/2.0201501jss WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: | 16 июл. 2014 г. |
Опубликована в печати: | 25 нояб. 2014 г. |
Идентификаторы БД:
Web of science: | WOS:000349547900022 |
Scopus: | 2-s2.0-84991660383 |
РИНЦ: | 27579762 |
OpenAlex: | W2121015280 |