Impact of Growth Temperature During Pulsed Magnetron Sputtering on the Structure and Defects of Aluminum Nitride Films

Impact of Growth Temperature During Pulsed Magnetron Sputtering on the Structure and Defects of Aluminum Nitride Films Научная публикация

Журнал

Journal of Structural Chemistry
ISSN: 1573-8779 , E-ISSN: 0022-4766

Вых. Данные

Год: 2026, Том: 67, Номер: 8, Страницы: 1704-1714 Страниц : 11 DOI: 10.1134/s0022476626080056

Авторы

Bogoslovtseva A.L. ¹ , Shayapov V.R. ^1,2 , Chepkasov S.Y. ¹ , Mironova M.I. ¹ , Kapishnikov A.V. ¹ , Marin D.V. ¹ , Geidt P.V. ¹

Организации

1	Novosibirsk State University, Novosibirsk, Russia
2	Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk, Russia

Информация о финансировании (1)

Bogoslovtseva A.L. , Shayapov V.R. , Chepkasov S.Y. , Mironova M.I. , Kapishnikov A.V. , Marin D.V. , Geidt P.V.
Impact of Growth Temperature During Pulsed Magnetron Sputtering on the Structure and Defects of Aluminum Nitride Films
Journal of Structural Chemistry. 2026. V.67. N8. P.1704-1714. DOI: 10.1134/s0022476626080056 WOS Scopus OpenAlex

Богословцева А.Л. , Шаяпов В.Р. , Чепкасов С.Ю. , Миронова М.И. , Капишников А.В. , Марин Д.В. , Гейдт П.В.
ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ РОСТА ПРИ ИМПУЛЬСНОМ МАГНЕТРОННОМ РАСПЫЛЕНИИ НА СТРУКТУРУ И ДЕФЕКТЫ ПЛЕНОК НИТРИДА АЛЮМИНИЯ
Журнал структурной химии. 2026. Т.67. №8. 169916 . DOI: 10.26902/jsc_id169916

Поступила в редакцию:	3 апр. 2026 г.
Опубликована в печати:	4 сент. 2026 г.

≡ Web of science:	WOS:001868313500003
≡ Scopus:	2-s2.0-105049330679
≡ OpenAlex:	W7208737444