Optical Properties of Hf-Ti-O Films Obtained by Atomic Layer Deposition | Sciact

Optical Properties of Hf-Ti-O Films Obtained by Atomic Layer Deposition Иное

Сборник

2025 IEEE 26th International Con-ference of Young Professionals in Electron Devices and Materials (EDM) 27 июня - 1 июля 2025
Сборник, IEEE Xplore. 2025.

Вых. Данные

Год: 2025, DOI: 10.1109/EDM65517.2025.11096808

Ключевые слова

atomic layer deposition, titanium dioxide, hafnium doixide, refractive index, band gap, film

Авторы

Evgeny Khizhnyak ¹ , Vladimir Shayapov ¹ , Irina Yushina ¹ , Mikhail Lebedev ¹

Организации

1	Laboratory of functional films and coatings, Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry SB RAS

Evgeny Khizhnyak , Vladimir Shayapov , Irina Yushina , Mikhail Lebedev
Optical Properties of Hf-Ti-O Films Obtained by Atomic Layer Deposition
В сборнике 2025 IEEE 26th International Con-ference of Young Professionals in Electron Devices and Materials (EDM) 27 июня - 1 июля 2025. – IEEE Xplore., 2025. DOI: 10.1109/EDM65517.2025.11096808

Нет идентификаторов

Пока нет цитирований