Синтез пленок TiSiN методом реактивного магнетронного распыления при комнатной температуре

Синтез пленок TiSiN методом реактивного магнетронного распыления при комнатной температуре Full article

Journal

Неорганические материалы
ISSN: 0002-337X

Output data

Year: 2024, Volume: 60, Number: 2, Pages: 164-174 Pages count : 11 DOI: 10.31857/S0002337X24020044

Authors

Суляева В.С. ¹ , Сыроквашин М.М. ¹ , Кожевников А.К. ¹ , Ермакова Е.Н. ¹

Affiliations

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО Российской академии наук, пр. Академика Лаврентьева, 3, Новосибирск, 630090 Россия

Суляева В.С. , Сыроквашин М.М. , Кожевников А.К. , Ермакова Е.Н.
Синтез пленок TiSiN методом реактивного магнетронного распыления при комнатной температуре
Неорганические материалы. 2024. Т.60. №2. С.164-174. DOI: 10.31857/S0002337X24020044 РИНЦ

Sulyaeva V.S. , Syrokvashin M.M. , Kozhevnikov A.K. , Ermakova E.N.
Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering
Inorganic Materials. 2024. V.60. N6. P.723-730. DOI: 10.1134/S0020168524700948 WOS OpenAlex

Submitted:	Sep 6, 2023
Accepted:	Nov 18, 2023
Published print:	Dec 5, 2024

Elibrary:

75199355

Пока нет цитирований