Processes of Coating Formation by Pulsed MOCVD in the ZrO2–HfO2 System. | Sciact

Processes of Coating Formation by Pulsed MOCVD in the ZrO2–HfO2 System. Научная публикация

Журнал

Journal of Structural Chemistry
ISSN: 1573-8779 , E-ISSN: 0022-4766

Вых. Данные

Год: 2024, Том: 65, Номер: 11, Страницы: 2135–2142 Страниц : DOI: 10.1134/S0022476624110027

Авторы

Шутилов Роман Александрович ¹ , Максимовский Евгений Анатольевич ¹ , Поповецкий Павел Сергеевич ¹ , Корольков Илья Викторович ¹ , Гисматулин А.А. ² , Игуменов Игорь Константинович ¹

Организации

1	Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch of Russian Academy of Sciences
2	Institute of Semiconductor Physics SB RAS

Shutilov R.A. , Maksimovskii E.A. , Popovetskiy P.S. , Korolʹkov I.V. , Гисматулин А.А. , Igumenov I.K.
Processes of Coating Formation by Pulsed MOCVD in the ZrO2–HfO2 System.
Journal of Structural Chemistry. 2024. V.65. N11. P.2135–2142. DOI: 10.1134/S0022476624110027 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex

Шутилов Р.А. , Максимовский Е.А. , Поповецкий П.С. , Корольков И.В. , Гисматулин А.А. , Игуменов И.К.
Процессы формирования покрытий методом импульсного MOCVD в системе ZrO2-HfO2
Журнал структурной химии. 2024. Т.65. №11. 134521 . DOI: 10.26902/JSC_id134521 РИНЦ OpenAlex

Поступила в редакцию:	15 апр. 2024 г.
Принята к публикации:	25 июн. 2024 г.
Опубликована в печати:	2 дек. 2024 г.
Опубликована online:	2 дек. 2024 г.

Web of science:	WOS:001376818100007
Scopus:	2-s2.0-85211148031
РИНЦ:	75143222
OpenAlex:	W4404905147

Пока нет цитирований