ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК ИЗ СМЕСИ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛЦИКЛОТРИСИЛАЗАНА И АРГОНА В ИНДУКТИВНО-СВЯЗАННОЙ ПЛАЗМЕ Научная публикация
| Журнал | Физика и химия стекла ISSN: 0132-6651 | ||
|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 2019, Том: 45, Номер: 6, Страницы: 519-527 Страниц : 9 DOI: 10.1134/S0132665119060180 | ||
| Ключевые слова | PECVD, карбонитрид кремния, гексаметилциклотрисилазан, эмиссионная спектроскопия | ||
| Авторы |  | ||
| Организации | 
 | 
                            Реферат:
                            В индуктивно-связанной плазме высокочастотного разряда из смеси паров гексаметилциклотрисилазана и аргона получены пленки SiCxNy:H при температурах подложек 100–400°C и мощности разряда 200 Вт. Определены простейшие компоненты плазмы (азот, циан, атомы кремния, свободные радикалы CH, димеры C2). Исследованы некоторые физико-химические свойства пленок, скорость роста, типы химических связей, показатель преломления, интервал прозрачности, краевой угол смачивания. Синтезированные пленки имеют полимероподобное строение.
                        
                    
                
                        Библиографическая ссылка:
                                Шаяпов В.Р.
    ,        Чагин М.Н.
    ,        Колодин А.Н.
    ,        Косинова М.Л.
    
ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК ИЗ СМЕСИ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛЦИКЛОТРИСИЛАЗАНА И АРГОНА В ИНДУКТИВНО-СВЯЗАННОЙ ПЛАЗМЕ
Физика и химия стекла. 2019. Т.45. №6. С.519-527. DOI: 10.1134/S0132665119060180 РИНЦ OpenAlex
                                                                        ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК ИЗ СМЕСИ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛЦИКЛОТРИСИЛАЗАНА И АРГОНА В ИНДУКТИВНО-СВЯЗАННОЙ ПЛАЗМЕ
Физика и химия стекла. 2019. Т.45. №6. С.519-527. DOI: 10.1134/S0132665119060180 РИНЦ OpenAlex
                                Переводная:
                                        Shayapov V.R.
    ,        Chagin M.N.
    ,        Kolodin A.N.
    ,        Kosinova M.L.
    
Deposition of Films from a Mixture of Hexamethylcyclotrisilazane Vapor and Argon in Inductively Coupled Plasma
Glass Physics and Chemistry. 2019. V.45. N6. P.525-531. DOI: 10.1134/S108765961906018X WOS Scopus OpenAlex
                                            
                    
                                            Deposition of Films from a Mixture of Hexamethylcyclotrisilazane Vapor and Argon in Inductively Coupled Plasma
Glass Physics and Chemistry. 2019. V.45. N6. P.525-531. DOI: 10.1134/S108765961906018X WOS Scopus OpenAlex
                            Даты:
                            
                                                                    
                        
                    
                    | Поступила в редакцию: | 23 мая 19 г. | 
| Принята к публикации: | 7 авг. 19 г. | 
                        Идентификаторы БД:
                            
                    
                    
                                            | РИНЦ: | 41319433 | 
| OpenAlex: | W2991318670 | 
                            Цитирование в БД:
                                Пока нет цитирований