MOCVD growth and characterization of vanadium dioxide films | Sciact

MOCVD growth and characterization of vanadium dioxide films Научная публикация

Журнал

Journal of Materials Science
ISSN: 1573-4803 , E-ISSN: 0022-2461

Вых. Данные

Год: 2017, Том: 52, Номер: 7, Страницы: 4061-4069 Страниц : 9 DOI: 10.1007/s10853-016-0669-y

Авторы

Yakovkina L.V. ¹ , Mutilin S.V. ² , Prinz V.Ya. ² , Smirnova T.P. ¹ , Shayapov V.R. ¹ , Korol’kov I.V. ¹ , Maksimovsky E.A.Maksimovsky ¹ , Volchok N.D. ¹

Организации

1	Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences
2	Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences

Yakovkina L.V. , Mutilin S.V. , Prinz V.Y. , Smirnova T.P. , Shayapov V.R. , Korol’kov I.V. , Maksimovsky E.A.M. , Volchok N.D.
MOCVD growth and characterization of vanadium dioxide films
Journal of Materials Science. 2017. V.52. N7. P.4061-4069. DOI: 10.1007/s10853-016-0669-y WOS Scopus РИНЦ OpenAlex

Поступила в редакцию:	19 окт. 2016 г.
Опубликована online:	27 дек. 2016 г.

Web of science:	WOS:000392500200043
Scopus:	2-s2.0-85007432912
РИНЦ:	29469641
OpenAlex:	W2562603248

БД	Цитирований
OpenAlex	38
Scopus	29
Web of science	24
РИНЦ	38