Sciact
  • EN
  • RU

MOCVD growth and characterization of vanadium dioxide films Научная публикация

Журнал Journal of Materials Science
ISSN: 1573-4803 , E-ISSN: 0022-2461
Вых. Данные Год: 2017, Том: 52, Номер: 7, Страницы: 4061-4069 Страниц : 9 DOI: 10.1007/s10853-016-0669-y
Авторы Yakovkina L.V. 1 , Mutilin S.V. 2 , Prinz V.Ya. 2 , Smirnova T.P. 1 , Shayapov V.R. 1 , Korol’kov I.V. 1 , Maksimovsky E.A.Maksimovsky 1 , Volchok N.D. 1
Организации
1 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences
2 Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences
Библиографическая ссылка: Yakovkina L.V. , Mutilin S.V. , Prinz V.Y. , Smirnova T.P. , Shayapov V.R. , Korol’kov I.V. , Maksimovsky E.A.M. , Volchok N.D.
MOCVD growth and characterization of vanadium dioxide films
Journal of Materials Science. 2017. V.52. N7. P.4061-4069. DOI: 10.1007/s10853-016-0669-y WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 19 окт. 2016 г.
Опубликована online: 27 дек. 2016 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:000392500200043
Scopus: 2-s2.0-85007432912
РИНЦ: 29469641
OpenAlex: W2562603248
Цитирование в БД:
БД Цитирований
OpenAlex 32
Scopus 29
Web of science 19
РИНЦ 34
Альметрики: