Химический состав плазмы и свойства пленок, полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана Научная публикация
Журнал |
Химия высоких энергий
ISSN: 0023-1193 |
||
---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2016, Том: 50, Номер: 3, Страницы: 221-226 Страниц : 6 DOI: 10.7868/S002311931603013X | ||
Авторы |
|
||
Организации |
|
Реферат:
Изучены взаимосвязи между химическим составом газовой фазы и свойствами пленок SiCxNyHz, полученных методом плазмохимического осаждения из паров гексаметилдисилазана. Состав плазмы изучался методом оптической эмиссионной спектроскопии. Выполнен синхронный термический анализ пленок с масс-спектральной регистрацией выделяемых газов. На основе полученных результатов и литературных данных предложены механизмы формирования пленок в условиях полимеризации в плазме, установлен гетерогенный механизм роста пленок в условиях малой мощности плазмы и высоких температур в реакторе.
Библиографическая ссылка:
Шаяпов В.Р.
, Румянцев Ю.М.
, Плюснин П.Е.
Химический состав плазмы и свойства пленок, полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана
Химия высоких энергий. 2016. Т.50. №3. С.221-226. DOI: 10.7868/S002311931603013X РИНЦ OpenAlex
Химический состав плазмы и свойства пленок, полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана
Химия высоких энергий. 2016. Т.50. №3. С.221-226. DOI: 10.7868/S002311931603013X РИНЦ OpenAlex
Переводная:
Shayapov V.R.
, Rumyantsev Y.M.
, Plyusnin P.E.
Chemical Composition and Properties of Films Produced from Hexamethyldisilazane by PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition
High Energy Chemistry. 2016. V.50. N3. P.213-218. DOI: 10.1134/S0018143916030127 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Chemical Composition and Properties of Films Produced from Hexamethyldisilazane by PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition
High Energy Chemistry. 2016. V.50. N3. P.213-218. DOI: 10.1134/S0018143916030127 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: | 10 июн. 2015 г. |
Идентификаторы БД:
РИНЦ: | 25922651 |
OpenAlex: | W2369830189 |
Цитирование в БД:
Пока нет цитирований