Химический состав плазмы и свойства пленок, полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана Full article
Journal |
Химия высоких энергий
ISSN: 0023-1193 |
||
---|---|---|---|
Output data | Year: 2016, Volume: 50, Number: 3, Pages: 221-226 Pages count : 6 DOI: 10.7868/S002311931603013X | ||
Authors |
|
||
Affiliations |
|
Abstract:
Изучены взаимосвязи между химическим составом газовой фазы и свойствами пленок SiCxNyHz, полученных методом плазмохимического осаждения из паров гексаметилдисилазана. Состав плазмы изучался методом оптической эмиссионной спектроскопии. Выполнен синхронный термический анализ пленок с масс-спектральной регистрацией выделяемых газов. На основе полученных результатов и литературных данных предложены механизмы формирования пленок в условиях полимеризации в плазме, установлен гетерогенный механизм роста пленок в условиях малой мощности плазмы и высоких температур в реакторе.
Cite:
Шаяпов В.Р.
, Румянцев Ю.М.
, Плюснин П.Е.
Химический состав плазмы и свойства пленок, полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана
Химия высоких энергий. 2016. Т.50. №3. С.221-226. DOI: 10.7868/S002311931603013X РИНЦ OpenAlex
Химический состав плазмы и свойства пленок, полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана
Химия высоких энергий. 2016. Т.50. №3. С.221-226. DOI: 10.7868/S002311931603013X РИНЦ OpenAlex
Translated:
Shayapov V.R.
, Rumyantsev Y.M.
, Plyusnin P.E.
Chemical Composition and Properties of Films Produced from Hexamethyldisilazane by PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition
High Energy Chemistry. 2016. V.50. N3. P.213-218. DOI: 10.1134/S0018143916030127 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Chemical Composition and Properties of Films Produced from Hexamethyldisilazane by PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition
High Energy Chemistry. 2016. V.50. N3. P.213-218. DOI: 10.1134/S0018143916030127 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Dates:
Submitted: | Jun 10, 2015 |
Identifiers:
Elibrary: | 25922651 |
OpenAlex: | W2369830189 |
Citing:
Пока нет цитирований