Structural defects in SiCxNyHz films obtained by plasma-enhanced chemical deposition from hexamethyldisilazane vapor Научная публикация

Журнал	Journal of Structural Chemistry ISSN: 1573-8779 , E-ISSN: 0022-4766
Вых. Данные	Год: 2015, Том: 56, Номер: 6, Страницы: 1070-1075 Страниц : 6 DOI: 10.1134/S0022476615060074
Авторы	Shayapov V.R. 1 , Nadolinnyi V.A. 1 , Kozhemyachenko S.I. 1 , Rumyantsev Yu.M.Rumyantsev 1 , Fainer N.I. 1
Организации	1 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences