Химическая структура и стабильность аморфных пленок SiCxNy:H, полученных методом ICP CVD с использованием дисилазанов

Химическая структура и стабильность аморфных пленок SiCxNy:H, полученных методом ICP CVD с использованием дисилазанов Full article

Journal

Журнал структурной химии
ISSN: 2542-0976 , E-ISSN: 0136-7463

Output data

Year: 2026, Volume: 67, Number: 2, Article number : 161463, Pages count : DOI: 10.26902/JSC_id161463

Authors

Чагин М.Н. ¹ , Суляева В.С. ¹ , Ермакова Е.Н. ¹ , Максимовский Е.А. ¹ , Асанов И.П. ¹ , Колодин А.Н. ¹ , Юшина И.В. ¹ , Tu R. ² , Косинова М.Л. ¹

Affiliations

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
2	Уханьский технологический университет, Ухань, Китай

Чагин М.Н. , Суляева В.С. , Ермакова Е.Н. , Максимовский Е.А. , Асанов И.П. , Колодин А.Н. , Юшина И.В. , Tu R. , Косинова М.Л.
Химическая структура и стабильность аморфных пленок SiCxNy:H, полученных методом ICP CVD с использованием дисилазанов
Журнал структурной химии. 2026. Т.67. №2. 161463 . DOI: 10.26902/JSC_id161463 OpenAlex

Chagin M.N. , Sulyaeva V.S. , Ermakova E.N. , Maksimovskiy E.A. , Asanov I.P. , Kolodin A.N. , Yushina I.V. , Tu R. , Kosinova M.L.
Chemical Structure and Stability of Amorphous SiCxNy:H Films Prepared by ICP CVD Using Disilazanes
Journal of Structural Chemistry. 2026. V.67. N2. P.426-441. DOI: 10.1134/s0022476626020174 OpenAlex

Submitted:	Nov 21, 2025
Published print:	Feb 28, 2026

≡ OpenAlex:

W4417018907