Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane Научная публикация
Журнал |
Coatings
ISSN: 2079-6412 |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2022, Том: 12, Номер: 1, Номер статьи : 80, Страниц : 26 DOI: 10.3390/coatings12010080 | ||||||
Авторы |
|
||||||
Организации |
|
Библиографическая ссылка:
Chagin M.N.
, Sulyaeva V.S.
, Shayapov V.R.
, Kolodin A.N.
, Khomyakov M.N.
, Yushina I.V.
, Kosinova M.L.
Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane
Coatings. 2022. V.12. N1. 80 :1-26. DOI: 10.3390/coatings12010080 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane
Coatings. 2022. V.12. N1. 80 :1-26. DOI: 10.3390/coatings12010080 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: | 10 дек. 2021 г. |
Принята к публикации: | 5 янв. 2022 г. |
Опубликована в печати: | 11 янв. 2022 г. |
Идентификаторы БД:
Web of science: | WOS:000747547800001 |
Scopus: | 2-s2.0-85123690053 |
РИНЦ: | 48145775 |
OpenAlex: | W4205563622 |