Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane Научная публикация
| Журнал | Coatings ISSN: 2079-6412 | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 2022, Том: 12, Номер: 1, Номер статьи : 80, Страниц : 26 DOI: 10.3390/coatings12010080 | ||||||
| Авторы |  | ||||||
| Организации | 
 | 
                        Библиографическая ссылка:
                                Chagin M.N.
    ,        Sulyaeva V.S.
    ,        Shayapov V.R.
    ,        Kolodin A.N.
    ,        Khomyakov M.N.
    ,        Yushina I.V.
    ,        Kosinova M.L.
    
Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane
Coatings. 2022. V.12. N1. 80 :1-26. DOI: 10.3390/coatings12010080 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
                    
                    
                                            Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane
Coatings. 2022. V.12. N1. 80 :1-26. DOI: 10.3390/coatings12010080 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
                            Даты:
                            
                                                                    
                        
                    
                    | Поступила в редакцию: | 10 дек. 2021 г. | 
| Принята к публикации: | 5 янв. 2022 г. | 
| Опубликована в печати: | 11 янв. 2022 г. | 
                        Идентификаторы БД:
                            
                    
                    
                                            
                    
                                            
                    
                | Web of science: | WOS:000747547800001 | 
| Scopus: | 2-s2.0-85123690053 | 
| РИНЦ: | 48145775 | 
| OpenAlex: | W4205563622 |