Sciact
  • EN
  • RU

Аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, полученные из паров гексаметилдисилана в индуктивно-связанной плазме ВЧ разряда Full article

Journal Химия высоких энергий
ISSN: 0023-1193
Output data Year: 2024, Pages: 535–542 Pages count :
Authors Чагин М.Н. 1 , Ермакова Е.Н. 1 , Шаяпов В.Р. 1 , Суляева В.С. 1 , Максимовский Е.А. 1 , Юшина И.В. 1 , Косинова М.Л. 1
Affiliations
1 Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, пр. Акад. Лаврентьева, 3, Новосибирск, 630090 Россия
Cite: Чагин М.Н. , Ермакова Е.Н. , Шаяпов В.Р. , Суляева В.С. , Максимовский Е.А. , Юшина И.В. , Косинова М.Л.
Аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, полученные из паров гексаметилдисилана в индуктивно-связанной плазме ВЧ разряда
Химия высоких энергий. 2024. С.535–542.
Translated: Chagin M.N. , Ermakova E.N. , Shayapov V.R. , Sulyaeva V.S. , Maksimovskii E.A. , Yushina I.V. , Kosinova M.L.
Amorphous SiCx:H and SiCxNy:H Films Obtained from Hexamethyldisilane Vapor in Inductively Coupled RF Discharge Plasma
High Energy Chemistry. 2024. V.58. N6. P.693-698. DOI: 10.1134/S0018143924700565 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Dates:
Submitted: Jun 17, 2024
Accepted: Jul 3, 2024
Identifiers: No identifiers
Citing: Пока нет цитирований