Sciact
  • EN
  • RU

АМОРФНЫЕ ПЛЕНКИ SiCx:H и SiCxNy:H, ПОЛУЧЕННЫЕ ИЗ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛАНА Full article

Journal Журнал структурной химии
ISSN: 2542-0976 , E-ISSN: 0136-7463
Output data Year: 2024, Volume: 65, Number: 10, Article number : 134149, Pages count : DOI: 10.26902/jsc_id134149
Tags аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, ICP CVD, гексаметилдисилан, стабильность пленок, оптические свойства, оптическая эмиссионная спектроскопия
Authors Чагин М.Н. 1 , Ермакова Е.Н. 1 , Шаяпов В.Р. 1 , Суляева В.С. 1 , Юшина И.В. 1 , Максимовский Е.А. 1 , Дудкина С.П. 1 , Сараев А.А. 2 , Герасимов Е.Ю. 2 , Могильников К.П. 3 , Колодин А.Н. 1 , Косинова М.Л. 1
Affiliations
1 Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
2 Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН, Новосибирск, Россия
3 Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия

Abstract: Аморфные прозрачные пленки SiCx:H и SiCxNy:H синтезированы при температуре 200 °C и мощности разряда 200 Вт в реакторе с индуктивно-связанной плазмой ВЧ разряда при использовании паров гексаметилдисилана и дополнительных газов аргона и/или азота. Исследовано влияние скорости потока N2 на морфологию, химическое строение, элементный состав, коэффициент пропускания, показатель преломления, краевой угол смачивания и скорость осаждения пленок. Методом оптической эмиссионной спектроскопии определены компоненты плазмы. Методами ПЭМВР и ЭДС-картирования показано, что отожженный образец Cu/SiCx:H/Si(100) имеет четкие границы раздела подложка/пленка и пленка/слой меди, диффузии Cu не наблюдается, пленку SiCx:H можно рассматривать как перспективный диффузионно-барьерный слой. Изучена стабильность пленок при хранении в условиях окружающей среды. Методами ЭДС, ИК спектроскопии и РФЭС показана предрасположенность к окислению пленок SiCxNy:H, полученных в данном процессе.
Cite: Чагин М.Н. , Ермакова Е.Н. , Шаяпов В.Р. , Суляева В.С. , Юшина И.В. , Максимовский Е.А. , Дудкина С.П. , Сараев А.А. , Герасимов Е.Ю. , Могильников К.П. , Колодин А.Н. , Косинова М.Л.
АМОРФНЫЕ ПЛЕНКИ SiCx:H и SiCxNy:H, ПОЛУЧЕННЫЕ ИЗ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛАНА
Журнал структурной химии. 2024. Т.65. №10. 134149 . DOI: 10.26902/jsc_id134149 РИНЦ OpenAlex
Translated: Chagin M.N. , Ermakova E.N. , Shayapov V.R. , Sulyaeva V.S. , Yushina I.V. , Maksimovskiy E.A. , Dudkina S.P. , Saraev A.A. , Gerasimov E.Y. , Mogilnikov K.P. , Kolodin A.N. , Kosinova M.L.
SiCx:H and SiCxNy:H Amorphous Films Prepared from Hexamethyldisilane Vapors
Journal of Structural Chemistry. 2024. V.65. N10. P.2041-2057. DOI: 10.1134/s0022476624100147 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Dates:
Submitted: May 14, 2024
Accepted: Jun 14, 2024
Published print: Oct 31, 2024
Identifiers:
Elibrary: 73881822
OpenAlex: W4399755185
Citing: Пока нет цитирований
Altmetrics: