Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала Научная публикация
Журнал |
Журнал неорганической химии
ISSN: 0044-457X |
||||
---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2020, Том: 65, Номер: 11, Страницы: 1570-1578 Страниц : 9 DOI: 10.31857/S0044457X20110100 | ||||
Авторы |
|
||||
Организации |
|
Библиографическая ссылка:
Лозанов В.В.
, Ильин И.Ю.
, Морозова Н.Б.
, Трубин С.В.
, Бакланова Н.И.
Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала
Журнал неорганической химии. 2020. Т.65. №11. С.1570-1578. DOI: 10.31857/S0044457X20110100 РИНЦ OpenAlex
Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала
Журнал неорганической химии. 2020. Т.65. №11. С.1570-1578. DOI: 10.31857/S0044457X20110100 РИНЦ OpenAlex
Переводная:
Lozanov V.V.
, Il’in I.Y.
, Morozova N.B.
, Trubin S.V.
, Baklanova N.I.
Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2020. V.65. P.1781–1788. DOI: 10.1134/S0036023620110108 Scopus OpenAlex
Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2020. V.65. P.1781–1788. DOI: 10.1134/S0036023620110108 Scopus OpenAlex
Идентификаторы БД:
РИНЦ: | 43947098 |
OpenAlex: | W3088997937 |
Цитирование в БД:
БД | Цитирований |
---|---|
РИНЦ | 2 |