Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала

Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала Научная публикация

Журнал

Журнал неорганической химии
ISSN: 0044-457X

Вых. Данные

Год: 2020, Том: 65, Номер: 11, Страницы: 1570-1578 Страниц : 9 DOI: 10.31857/S0044457X20110100

Авторы

Лозанов В.В. ¹ , Ильин И.Ю. ² , Морозова Н.Б. ² , Трубин С.В. ² , Бакланова Н.И. ¹

Организации

1	Институт химии твердого тела и механохимии СО РАН
2	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН

Лозанов В.В. , Ильин И.Ю. , Морозова Н.Б. , Трубин С.В. , Бакланова Н.И.
Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала
Журнал неорганической химии. 2020. Т.65. №11. С.1570-1578. DOI: 10.31857/S0044457X20110100 РИНЦ OpenAlex

Lozanov V.V. , Il’in I.Y. , Morozova N.B. , Trubin S.V. , Baklanova N.I.
Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2020. V.65. P.1781–1788. DOI: 10.1134/S0036023620110108 WOS Scopus OpenAlex

РИНЦ:	43947098
OpenAlex:	W3088997937

БД	Цитирований
РИНЦ	2