Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала Full article
Journal |
Журнал неорганической химии
ISSN: 0044-457X |
||||
---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2020, Volume: 65, Number: 11, Pages: 1570-1578 Pages count : 9 DOI: 10.31857/S0044457X20110100 | ||||
Authors |
|
||||
Affiliations |
|
Cite:
Лозанов В.В.
, Ильин И.Ю.
, Морозова Н.Б.
, Трубин С.В.
, Бакланова Н.И.
Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала
Журнал неорганической химии. 2020. Т.65. №11. С.1570-1578. DOI: 10.31857/S0044457X20110100 РИНЦ OpenAlex
Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала
Журнал неорганической химии. 2020. Т.65. №11. С.1570-1578. DOI: 10.31857/S0044457X20110100 РИНЦ OpenAlex
Translated:
Lozanov V.V.
, Il’in I.Y.
, Morozova N.B.
, Trubin S.V.
, Baklanova N.I.
Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2020. V.65. P.1781–1788. DOI: 10.1134/S0036023620110108 WOS Scopus OpenAlex
Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2020. V.65. P.1781–1788. DOI: 10.1134/S0036023620110108 WOS Scopus OpenAlex
Identifiers:
Elibrary: | 43947098 |
OpenAlex: | W3088997937 |
Citing:
DB | Citing |
---|---|
Elibrary | 2 |