Sciact
  • EN
  • RU

Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide Научная публикация

Журнал Russian Journal of Inorganic Chemistry
ISSN: 0036-0236 , E-ISSN: 1531-8613
Вых. Данные Год: 2020, Том: 65, Страницы: 1781–1788 Страниц : DOI: 10.1134/S0036023620110108
Авторы Lozanov V.V. 1 , Il’in I.Yu. 2 , Morozova N.B. 2 , Trubin S.V. 2 , Baklanova N.I. 1
Организации
1 Institute of Solid State Chemistry and Mechanochemistry, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences, Novosibirsk
2 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences, Novosibirsk
Библиографическая ссылка: Lozanov V.V. , Il’in I.Y. , Morozova N.B. , Trubin S.V. , Baklanova N.I.
Chemical Vapor Deposition of an Iridium Phase on Hafnium Carbide and Tantalum Carbide
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2020. V.65. P.1781–1788. DOI: 10.1134/S0036023620110108 WOS Scopus OpenAlex
Оригинальная: Лозанов В.В. , Ильин И.Ю. , Морозова Н.Б. , Трубин С.В. , Бакланова Н.И.
Химическое осаждение из газовой фазы иридия на карбиды гафния и тантала
Журнал неорганической химии. 2020. Т.65. №11. С.1570-1578. DOI: 10.31857/S0044457X20110100 РИНЦ OpenAlex
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:000590784900018
Scopus: 2-s2.0-85096213226
OpenAlex: W3101074110
Цитирование в БД:
БД Цитирований
OpenAlex 12
Web of science 11
Альметрики: