ПОЛУЧЕНИЕ ВЫСОКОПРОЗРАЧНЫХ ПЛЕНОК SiCxNyOz:H ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИМ РАЗЛОЖЕНИЕМ ГАЗОВОЙ СМЕСИ 1,1,3,3,5,5-ГЕКСАМЕТИЛЦИКЛОТРИСИЛАЗАНА, КИСЛОРОДА И АЗОТА Full article
| Journal |
Журнал общей химии
ISSN: 0044-460X |
||||
|---|---|---|---|---|---|
| Output data | Year: 2019, Volume: 89, Number: 11, Pages: 1786-1791 Pages count : 6 DOI: 10.1134/S0044460X19110209 | ||||
| Tags | пленки гидрогенизированного оксикарбонитрида кремния, гексаметилциклотрисилазан, плазмохимическое осаждение, оптическое пропускание, твердость и модуль Юнга | ||||
| Authors |
|
||||
| Affiliations |
|
Abstract:
Получены высокопрозрачные в широкой спектральной области (350‒2500 нм) пленок оксикарбонитрида кремния. Осаждение пленок проводили при разложении 1,1,3,3,5,5-гексаметилциклотрисилазана в смесях с кислородом и азотом в плазме высокочастотного разряда в интервале температур 373–973 K. Влияние температуры синтеза и соотношения кислорода к азоту в исходных газовых смесях на химические и функциональные свойства пленок SiCxNyOz:H изучали с использованием ИК и КРС спектроскопии, энергодисперсионной спектроскопии, эллипсометрии, спекрофотометрии. Исследованы состав и некоторые характеристики полученных пленок.
Cite:
Плеханов А.Г.
, Файнер Н.И.
, Максимовский Е.А.
, Шаяпов В.Р.
, Юшина И.В.
, Хомяков М.Н.
ПОЛУЧЕНИЕ ВЫСОКОПРОЗРАЧНЫХ ПЛЕНОК SiCxNyOz:H ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИМ РАЗЛОЖЕНИЕМ ГАЗОВОЙ СМЕСИ 1,1,3,3,5,5-ГЕКСАМЕТИЛЦИКЛОТРИСИЛАЗАНА, КИСЛОРОДА И АЗОТА
Журнал общей химии. 2019. Т.89. №11. С.1786-1791. DOI: 10.1134/S0044460X19110209 РИНЦ OpenAlex
ПОЛУЧЕНИЕ ВЫСОКОПРОЗРАЧНЫХ ПЛЕНОК SiCxNyOz:H ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИМ РАЗЛОЖЕНИЕМ ГАЗОВОЙ СМЕСИ 1,1,3,3,5,5-ГЕКСАМЕТИЛЦИКЛОТРИСИЛАЗАНА, КИСЛОРОДА И АЗОТА
Журнал общей химии. 2019. Т.89. №11. С.1786-1791. DOI: 10.1134/S0044460X19110209 РИНЦ OpenAlex
Translated:
Plekhanov A.G.
, Fainer N.I.
, Maksimovskiy E.A.
, Shayapov V.R.
, Yushina I.V.
, Khomyakov M.N.
Synthesis of Highly Transparent SiCxNyOz:H Films via Plasma-Chemical Decomposition of 1,1,3,3,5,5-Hexamethylcyclotrisilazane, Oxygen, and Nitrogen Gas Mixture
Russian Journal of General Chemistry. 2019. V.89. N11. P.2290-2294. DOI: 10.1134/S1070363219110203 WOS Scopus OpenAlex
Synthesis of Highly Transparent SiCxNyOz:H Films via Plasma-Chemical Decomposition of 1,1,3,3,5,5-Hexamethylcyclotrisilazane, Oxygen, and Nitrogen Gas Mixture
Russian Journal of General Chemistry. 2019. V.89. N11. P.2290-2294. DOI: 10.1134/S1070363219110203 WOS Scopus OpenAlex
Dates:
| Submitted: | May 14, 2019 |
| Accepted: | May 20, 2019 |
Identifiers:
| Elibrary: | 41208607 |
| OpenAlex: | W2983737263 |
Citing:
Пока нет цитирований