Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге

Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге Full article

Journal

Прикладная механика и техническая физика
ISSN: 0869-5032

Output data

Year: 2023, DOI: 10.15372/PMTF202315332м

Authors

Баранов ЕА ¹ , Непомнящих ВА ^1,2 , Константинов ВО ¹ , Щукин ВГ ¹ , Меркулова ИЕ ¹ , Замчий АО ¹ , Лунев НА ^1,2 , Володин ВА ^2,3 , Shapovalova Aleksandra Aleksandrovna ⁴

Affiliations

1	Институт теплофизики им. С. С. Кутателадзе СО РАН
2	Новосибирский государственный университет
3	Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
4	Институт неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН

Баранов Е. , Непомнящих В. , Константинов В. , Щукин В. , Меркулова И. , Замчий А. , Лунев Н. , Володин В. , Шаповалова А.А.
Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге
Прикладная механика и техническая физика. 2023. DOI: 10.15372/PMTF202315332м

Baranov E.A. , Nepomnyashchikh V.A. , Konstantinov V.O. , Shchukin V.G. , Merkulova I.E. , Zamchiy A.O. , Lunev N.A. , Volodin V.A. , Shapovalova A.A.
INFLUENCE OF CURRENT DENSITY ON THE STRUCTURE OF AMORPHOUS SILICON SUBOXIDE THIN FILMS UNDER ELECTRON-BEAM ANNEALING
Journal of Applied Mechanics and Technical Physics. 2023. V.64. N5. P.778-783. DOI: 10.1134/s0021894423050061 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex

No identifiers

Пока нет цитирований