Sciact
  • EN
  • RU

Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге Научная публикация

Журнал Прикладная механика и техническая физика
ISSN: 0869-5032
Вых. Данные Год: 2023, DOI: 10.15372/PMTF202315332м
Авторы Баранов ЕА 1 , Непомнящих ВА 1,2 , Константинов ВО 1 , Щукин ВГ 1 , Меркулова ИЕ 1 , Замчий АО 1 , Лунев НА 1,2 , Володин ВА 2,3 , Шаповалова Александра Александровна 4
Организации
1 Институт теплофизики им. С. С. Кутателадзе СО РАН
2 Новосибирский государственный университет
3 Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
4 Институт неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН
Библиографическая ссылка: Баранов Е. , Непомнящих В. , Константинов В. , Щукин В. , Меркулова И. , Замчий А. , Лунев Н. , Володин В. , Шаповалова А.А.
Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге
Прикладная механика и техническая физика. 2023. DOI: 10.15372/PMTF202315332м
Переводная: Baranov E.A. , Nepomnyashchikh V.A. , Konstantinov V.O. , Shchukin V.G. , Merkulova I.E. , Zamchiy A.O. , Lunev N.A. , Volodin V.A. , Shapovalova A.A.
INFLUENCE OF CURRENT DENSITY ON THE STRUCTURE OF AMORPHOUS SILICON SUBOXIDE THIN FILMS UNDER ELECTRON-BEAM ANNEALING
Journal of Applied Mechanics and Technical Physics. 2023. V.64. N5. P.778-783. DOI: 10.1134/s0021894423050061 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Идентификаторы БД: Нет идентификаторов
Цитирование в БД: Пока нет цитирований
Альметрики: