Sciact
  • EN
  • RU

ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H Full article

Journal Журнал неорганической химии
ISSN: 0044-457X
Output data Year: 2024, Volume: 69, Number: 1, Pages: 43-48 Pages count : 6 DOI: 10.31857/S0044457X24010059
Tags термодинамическое моделирование, система Ni–Si–C–H, химическое осаждение из газовой фазы
Authors Шестаков В.А. 1 , Косинова М.Л. 1
Affiliations
1 Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН

Abstract: Благодаря уникальным свойствам бескислородная керамика является перспективной для применения в различных отраслях техники. Включение металлов или их соединений в эту керамику существенно расширяет возможности ее применения, поэтому активно разрабатываются способы синтеза таких композитов. Одним из способов получения таких пленок является осаждение из газовой фазы. Термо- динамическое моделирование позволяет подобрать условия для этого процесса. В работе проведено термодинамическое моделирование CVD-процесса в системе Ni–Si–C–H, где прекурсорами были никелоцен и силан. Результаты работы могут быть полезны для разработки способов получения пле- ночных материалов на основе SiC и никельсодержащих фаз.
Cite: Шестаков В.А. , Косинова М.Л.
ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H
Журнал неорганической химии. 2024. Т.69. №1. С.43-48. DOI: 10.31857/S0044457X24010059 РИНЦ OpenAlex
Translated: Shestakov V.A. , Kosinova M.L.
THERMODYNAMIC MODELING OF THE CVD PROCESS IN THE NI–SI–C–H SYSTEM
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2024. V.69. P.37-41. DOI: 10.1134/s0036023623602441 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Dates:
Submitted: Jun 21, 2023
Accepted: Aug 21, 2023
Identifiers:
Elibrary: 67875575
OpenAlex: W4402550959
Citing: Пока нет цитирований
Altmetrics: