ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H Full article
Journal |
Журнал неорганической химии
ISSN: 0044-457X |
||
---|---|---|---|
Output data | Year: 2024, Volume: 69, Number: 1, Pages: 43-48 Pages count : 6 DOI: 10.31857/S0044457X24010059 | ||
Tags | термодинамическое моделирование, система Ni–Si–C–H, химическое осаждение из газовой фазы | ||
Authors |
|
||
Affiliations |
|
Abstract:
Благодаря уникальным свойствам бескислородная керамика является перспективной для применения
в различных отраслях техники. Включение металлов или их соединений в эту керамику существенно
расширяет возможности ее применения, поэтому активно разрабатываются способы синтеза таких
композитов. Одним из способов получения таких пленок является осаждение из газовой фазы. Термо-
динамическое моделирование позволяет подобрать условия для этого процесса. В работе проведено
термодинамическое моделирование CVD-процесса в системе Ni–Si–C–H, где прекурсорами были
никелоцен и силан. Результаты работы могут быть полезны для разработки способов получения пле-
ночных материалов на основе SiC и никельсодержащих фаз.
Cite:
Шестаков В.А.
, Косинова М.Л.
ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H
Журнал неорганической химии. 2024. Т.69. №1. С.43-48. DOI: 10.31857/S0044457X24010059 РИНЦ OpenAlex
ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H
Журнал неорганической химии. 2024. Т.69. №1. С.43-48. DOI: 10.31857/S0044457X24010059 РИНЦ OpenAlex
Translated:
Shestakov V.A.
, Kosinova M.L.
THERMODYNAMIC MODELING OF THE CVD PROCESS IN THE NI–SI–C–H SYSTEM
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2024. DOI: 10.1134/s0036023623602441 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
THERMODYNAMIC MODELING OF THE CVD PROCESS IN THE NI–SI–C–H SYSTEM
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2024. DOI: 10.1134/s0036023623602441 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex
Dates:
Submitted: | Jun 21, 2023 |
Accepted: | Aug 21, 2023 |
Identifiers:
Elibrary: | 67875575 |
OpenAlex: | W4402550959 |
Citing:
Пока нет цитирований