ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H

ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H Научная публикация

Журнал

Журнал неорганической химии
ISSN: 0044-457X

Вых. Данные

Год: 2024, Том: 69, Номер: 1, Страницы: 43-48 Страниц : 6 DOI: 10.31857/S0044457X24010059

Ключевые слова

термодинамическое моделирование, система Ni–Si–C–H, химическое осаждение из газовой фазы

Авторы

Шестаков В.А. ¹ , Косинова М.Л. ¹

Организации

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН

Благодаря уникальным свойствам бескислородная керамика является перспективной для применения в различных отраслях техники. Включение металлов или их соединений в эту керамику существенно расширяет возможности ее применения, поэтому активно разрабатываются способы синтеза таких композитов. Одним из способов получения таких пленок является осаждение из газовой фазы. Термо- динамическое моделирование позволяет подобрать условия для этого процесса. В работе проведено термодинамическое моделирование CVD-процесса в системе Ni–Si–C–H, где прекурсорами были никелоцен и силан. Результаты работы могут быть полезны для разработки способов получения пле- ночных материалов на основе SiC и никельсодержащих фаз.

Шестаков В.А. , Косинова М.Л.
ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА CVD В СИСТЕМЕ Ni–Si–C–H
Журнал неорганической химии. 2024. Т.69. №1. С.43-48. DOI: 10.31857/S0044457X24010059 РИНЦ OpenAlex

Shestakov V.A. , Kosinova M.L.
THERMODYNAMIC MODELING OF THE CVD PROCESS IN THE NI–SI–C–H SYSTEM
Russian Journal of Inorganic Chemistry. 2024. V.69. P.37-41. DOI: 10.1134/s0036023623602441 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex

Поступила в редакцию:	21 июн. 2023 г.
Принята к публикации:	21 авг. 2023 г.

РИНЦ:	67875575
OpenAlex:	W4402550959

Пока нет цитирований