Особенности формирования покрытий методом импульсного MOCVD в системе ZrO2/HfO2 - Доклады на конференциях

Особенности формирования покрытий методом импульсного MOCVD в системе ZrO2/HfO2 Доклады на конференциях

Язык

Русский

Тип доклада

Устный

Конференция

Кузнецовские чтения – 2024. Седьмой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы
05-07 февр. 2024 , Новосибирск

Авторы

Шутилов Роман Александрович ¹ , Терещенко Олег Евгеньевич ² , Игуменов Игорь Константинович ¹

Организации

1	Институт неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН
2	Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН

Шутилов Р.А. , Терещенко О.Е. , Игуменов И.К.
Особенности формирования покрытий методом импульсного MOCVD в системе ZrO2/HfO2
Кузнецовские чтения – 2024. Седьмой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы 05-07 февр. 2024