Управление морфологией и свойствами смачиваемости полупроводников с помощью наносекундного лазерного текстурирования

Управление морфологией и свойствами смачиваемости полупроводников с помощью наносекундного лазерного текстурирования Full article

Journal

Теплофизика и Аэромеханика
ISSN: 0869-8635

Output data

Year: 2026, Volume: 33, Number: 4(160), Pages: 663-672 Pages count : 10 DOI: 10.63430/tia202604006

Authors

Васильев М.М. ¹ , Родионов А.А. ¹ , Гианнакис Т. ^2,3 , Кандела М. ² , Суляева В.С. ⁴ , Терехов В.В. ¹ , Старинский С.В. ^1,5

Affiliations

1	Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
2	Институт теоретической и физической химии, Национальный фонд научных исследований Греции, Афины, Греция
3	Афинский национальный университет им. Каподистрии, Физический факультет, Афины, Греция
4	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
5	Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия

Funding (2)

1
2

Васильев М.М. , Родионов А.А. , Гианнакис Т. , Кандела М. , Суляева В.С. , Терехов В.В. , Старинский С.В.
Управление морфологией и свойствами смачиваемости полупроводников с помощью наносекундного лазерного текстурирования
Теплофизика и Аэромеханика. 2026. Т.33. №4(160). С.663-672. DOI: 10.63430/tia202604006 OpenAlex

Submitted:	Feb 22, 2026
Accepted:	Jun 17, 2026
Published print:	Sep 21, 2026

≡ OpenAlex:

W7214529610