Управление морфологией и свойствами смачиваемости полупроводников с помощью наносекундного лазерного текстурирования

Управление морфологией и свойствами смачиваемости полупроводников с помощью наносекундного лазерного текстурирования Научная публикация

Журнал

Теплофизика и Аэромеханика
ISSN: 0869-8635

Вых. Данные

Год: 2026, Том: 33, Номер: 4(160), Страницы: 663-672 Страниц : 10 DOI: 10.63430/tia202604006

Авторы

Васильев М.М. ¹ , Родионов А.А. ¹ , Гианнакис Т. ^2,3 , Кандела М. ² , Суляева В.С. ⁴ , Терехов В.В. ¹ , Старинский С.В. ^1,5

Организации

1	Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
2	Институт теоретической и физической химии, Национальный фонд научных исследований Греции, Афины, Греция
3	Афинский национальный университет им. Каподистрии, Физический факультет, Афины, Греция
4	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
5	Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия

Информация о финансировании (2)

1
2

Васильев М.М. , Родионов А.А. , Гианнакис Т. , Кандела М. , Суляева В.С. , Терехов В.В. , Старинский С.В.
Управление морфологией и свойствами смачиваемости полупроводников с помощью наносекундного лазерного текстурирования
Теплофизика и Аэромеханика. 2026. Т.33. №4(160). С.663-672. DOI: 10.63430/tia202604006 OpenAlex

Поступила в редакцию:	22 февр. 2026 г.
Принята к публикации:	17 июн. 2026 г.
Опубликована в печати:	21 сент. 2026 г.

≡ OpenAlex:

W7214529610