Role of melting, evaporation, and plasma shielding in surface morphology formation during nanosecond laser texturing of silicon

Role of melting, evaporation, and plasma shielding in surface morphology formation during nanosecond laser texturing of silicon Научная публикация

Журнал

Surfaces and Interfaces
ISSN: 2468-0230

Вых. Данные

Год: 2026, Том: 97, Номер статьи : 110008, Страниц : 8 DOI: 10.1016/j.surfin.2026.110008

Авторы

Vasilev M.M. ¹ , Rodionov A.A. ¹ , Shukhov Yu.G. ¹ , Smirnov N.I. ^1,4 , Samokhvalov F.A. ¹ , Giannakis T. ² , Kandyla M. ² , Sulyaeva V.S. ³ , Starinskiy S.V. ¹

Организации

1	Kutateladze Institute of Thermophysics, Acad. Lavrentiev ave., 1, Novosibirsk, Russia
2	Theoretical and Physical Chemistry Institute, National Hellenic Research Foundation, 48 Vasileos Constantinou Avenue, 11635 Athens, Greece
3	Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Acad. Lavrentiev ave., 3, Novosibirsk, Russia
4	Novosibirsk State University, Novosibirsk, Russia

Информация о финансировании (1)

Vasilev M.M. , Rodionov A.A. , Shukhov Y.G. , Smirnov N.I. , Samokhvalov F.A. , Giannakis T. , Kandyla M. , Sulyaeva V.S. , Starinskiy S.V.
Role of melting, evaporation, and plasma shielding in surface morphology formation during nanosecond laser texturing of silicon
Surfaces and Interfaces. 2026. V.97. 110008 :1-8. DOI: 10.1016/j.surfin.2026.110008 Scopus

Поступила в редакцию:	10 апр. 2026 г.
Принята к публикации:	30 июн. 2026 г.
Опубликована online:	2 июл. 2026 г.
Опубликована в печати:	15 сент. 2026 г.

≡ Scopus:

2-s2.0-105044015539