Sciact
  • EN
  • RU

ALD and CVD deposition of pure thin gold films from a stable dimethylgold(III) precursor Научная публикация

Журнал Nanoscale
ISSN: 2040-3372 , E-ISSN: 2040-3364
Вых. Данные Год: 2025, Том: 17, Номер: 4, Страницы: 2318-2325 Страниц : 8 DOI: 10.1039/d4nr04765f
Авторы Parkhomenko Roman G. 1 , Igumenov Igor K. 2 , Hadjadj Sebastien Elie 3 , Trubin Sergey V. 2 , Knez Mato 1,4
Организации
1 CIC NanoGUNE, Tolosa Hiribidea 76, E-20018 San Sebastian, Spain. r.parkhomenko@nanogune.eu.
2 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry SB RAS, Lavrentiev Pr. 3, Novosibirsk 630090, Russia.
3 Materials Physics Center CSIC - UPV/EHU, Manuel de Lardizabal 5, 20018 San Sebastián, Spain.
4 IKERBASQUE, Basque Foundation for Science, Plaza Euskadi 3, Bilbao E-48009, Spain.
Библиографическая ссылка: Parkhomenko R.G. , Igumenov I.K. , Hadjadj S.E. , Trubin S.V. , Knez M.
ALD and CVD deposition of pure thin gold films from a stable dimethylgold(III) precursor
Nanoscale. 2025. V.17. N4. P.2318-2325. DOI: 10.1039/d4nr04765f WOS OpenAlex
Даты:
Опубликована в печати: 28 янв. 2025 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:001378730100001
OpenAlex: W4405072492
Цитирование в БД: Пока нет цитирований
Альметрики: