Термодинамическое исследование комплексов иридия(I) как основа технологии химического газофазного осаждения Научная публикация
Журнал |
Журнал общей химии
ISSN: 0044-460X |
||
---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2021, Том: 91, Номер: 10, Страницы: 1548–1557 Страниц : DOI: 10.31857/S0044460X21100103 | ||
Ключевые слова | давление насыщенного пара, энтальпия/энтропия сублимации и плавления, комплексы иридия(I), β-дикетонат, CVD-диаграмма | ||
Авторы |
|
||
Организации |
|
Реферат:
Получены данные о давлении насыщенного пара и плавлении дикарбонил(гексафторацетилацетонато)иридия [Ir(CO)2(hfac)]. Рассчитаны термодинамические характеристики его плавления и сублимации. Проведены единая обработка зависимостей p‒T, отнесение параметров сублимации к стандартной температуре и термодинамическое моделирование состава конденсированных фаз в системе прекурсор‒газ‒реагент для трех соединений иридия(I): [Ir(CO)2(hfac)], [Ir(CO)2(acac)] и [Ir(cod)(hfac)] (acac ‒ ацетилацетонат-ион, cod ‒ циклоокта-1,5-диен). Результаты формируют основу для выбора прекурсора и определения оптимальных условий осаждения покрытий на основе иридия(I).
Библиографическая ссылка:
Жерикова К.В.
, Макаренко А.М.
, Караковская К.И.
, Зеленина Л.Н.
, Сысоев С.В.
, Викулова Е.С.
, Морозова Н.Б.
Термодинамическое исследование комплексов иридия(I) как основа технологии химического газофазного осаждения
Журнал общей химии. 2021. Т.91. №10. С.1548–1557. DOI: 10.31857/S0044460X21100103 OpenAlex
Термодинамическое исследование комплексов иридия(I) как основа технологии химического газофазного осаждения
Журнал общей химии. 2021. Т.91. №10. С.1548–1557. DOI: 10.31857/S0044460X21100103 OpenAlex
Переводная:
Zherikova K.V.
, Makarenko A.M.
, Karakovskaya K.I.
, Zelenina L.N.
, Sysoev S.V.
, Vikulova E.S.
, Morozova N.B.
Thermodynamic Study of Iridium(I) Complexes as a Basis for Chemical Gas-Phase Deposition Technology
Russian Journal of General Chemistry. 2021. V.91. P.1990–1998. DOI: 10.1134/S1070363221100108 Scopus OpenAlex
Thermodynamic Study of Iridium(I) Complexes as a Basis for Chemical Gas-Phase Deposition Technology
Russian Journal of General Chemistry. 2021. V.91. P.1990–1998. DOI: 10.1134/S1070363221100108 Scopus OpenAlex
Идентификаторы БД:
OpenAlex: | W3204617582 |
Цитирование в БД:
БД | Цитирований |
---|---|
OpenAlex | 1 |